Colóquios da Física – Influência da Espessura e da Temperatura de Recozimento nas Propriedades Ópticas e Estruturais de Filmes Finos de Nitreto de Silício.

Postado por Emanuel Carvalho em 05/jun/2015 - Sem Comentários

Gostaríamos de convidá-los para o Colóquio da Física desta próxima terça-feira, 09 de Abril de 2015.

Palestrante: Afonso Kreling (PPGEM-EEIMVR-UFF)

Título: Influência da Espessura e da Temperatura de Recozimento nas Propriedades Ópticas e Estruturais de Filmes Finos de Nitreto de Silício.

Resumo:

O presente trabalho tem por objetivo estudar o efeito da espessura e da temperatura de tratamento térmico de filmes finos de nitreto de Silício depositados sobre substratos de vidro do tipo soda-cal e Si(100). Os revestimentos foram depositadas através de técnica de magnetron sputtering reativo, onde os parâmetros de deposição foram mantidos constantes, sendo variada apenas a velocidade das amostras sob o plasma, a fim de se obter filmes finos com espessuras entre 50 e 250 nm, sendo essas posteriormente submetidas a tratamentos térmicos a temperaturas entre 400 e 700 °C. A espessura, rugosidade superficial e propriedades ópticas dos revestimentos foram avaliadas através da técnica de elipsometria espectral com múltiplos ângulos de incidência. Investigamos possíveis mudanças de estrutura das amostras através da técnica de DRX. A energia de banda Eg foi avaliada através da relação da Tauc, utilizando espectros de transmissão e a curva de dispersão do coeficiente de extinção para a definição da absorbância dos revestimentos. Como resultados serão apresentados o comportamento do índice de refração e da rugosidade superficial dos revestimentos em função de sua espessura e em função da temperatura de tratamento térmico, além das energias de banda encontradas para as diversas amostras.

DATA: 09 de Junho de 2015

HORA: 16h

LOCAL: Sala 308C – Instituto de Ciências Exatas – UFF – Campus Aterrado, RuaDes. Ellis Hermidio Figueira, 783 (Rua do Forum)

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